Установки Наносерф и Солар-МН

Установки «Наносерф» и «Солар-МН» предназначены для синтеза методом МН (молекулярного наслаивания)-ALD (Atomic Layer Deposition) тонких пленок различных соединений (Al2O3,TiO2, ZnO, HfO2, VO2, SnO2 и др.) заданной толщины (от долей нанометра до микрон), в том числе с заданным чередованием этих слоев, на поверхности плоских, объемных «3D» или дисперсных материалов.

     Область применения – микроэлектроника, микромеханика, солнечная энергетика, оптика, оптоэлектроника, топливные элементы, суперконденсаторы, сенсоры и т.п. 

Основные параметры установок:

1.Размеры реакционной камеры:

«Наносерф» - 40 х 100 х 150 мм

«Солар-МН» - 20 х 210 х 250 мм 

2.Количество линий подачи реагентов:

«Наносерф» - 3 линии подачи газообразных реагентов, 1 линия подачи жидкого реагента.

«Солар-МН» - 5 линий подачи газообразных реагентов, 1 линия подачи жидкого реагента                         

(твердые труднолетучие реагенты могут подаваться в реактор путем впрыска их раствора в легколетучем растворителе)

3.Максимальная температура реакционной камеры – до 300^оС

4.Скорость роста пленки – до 100 нм в час

5.Равномерность толщины пленки по площади подложки (диам. 100 мм): отклонения не более 2-5% (в зависимости от типа пленки и используемых реагентов)

6.  Синтез проводится в потоке газа-носителя (азот, аргон) при давлении 0.1-50 Торр

Установки имеют низкотемпературные ловушки для улавливания из газового потока избытка газообразных реагентов и продуктов реакций.